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Hector ACD WCX

HECTOR-ACD WCX 정상 컬럼, silica 컬럼을 이용하여 산성 화합물을 분석시 산성 첨가제를 더하여 분석해야 했습니다. 분석 중에는 버퍼를 사용해도 문제가 없으나, 정제 분리시에는 버퍼를 제거해야 합니다. HECTOR-ACD,WCX 컬럼은 이러한 문제를 해결해드리고자 합니다. 충진제 표면에 산 작용기가 결합되어 있어 TFA와 같은 버퍼를 사용하지 않고 분석이 가능합니다.



HECTOR 은 HPLC,LC-MS, SFC SMB에 사용할 수 있는 크로마토그래피용 컬럼입니다.

HPLC 컬럼 선택시 고민을 완벽히 해결해 드립니다.HECTOR-M, A, T, W and ACD 높은 선택성을 제공합니다.

HECTOR 는 고순도의 실리카 입자를 사용하여 재현성 있는 결과를 제공합니다. 품질 보증을 위하여 항상 같은 사이

즈의 입자를 제공합니다. 다양한 제품군 제공을 통해 선택의 범위를 넓혀 드렸습니다.

HECTOR 고순도 실리카를 사용하며 3, 5, 10μm 입자를 바탕으로 제작됩니다. 고객의 요청에 따라 다양한 컬럼 사이즈 제작이 가능합니다.

제약, 환경, 식품, 바이오, 화학 등의 분야에 활용되고 있습니다.


Hector-ACD 

HPLC는 유기화합물을 정제하는데 사용되고 있습니다. 특히 정상 모드(normal-phase) 에서 핵산, 에틸아세테이트와 같은 비극 성 용매를 사용하여 정제 후 처리가 간단한 장점이 있습니다. 그러나 화합물 특성에 따라 실리카 겔에서 분리가 어려운 단점이 있으며, 예를 들어 카르복시기 작용기를 가지고 있는 산을 정상 모드에서 분리할 시 적절한 충진제는 없었습니다.

HECTOR-ACD 컬럼은 카르복시 작용기를 가지고 있는 화합물을 정상 모드에서 분리할 수 있습니다. -COOH, -SO3H를 실리카 표면에 결합시킨 HECTOR-ACD는 유기산물질을 분리하는데 유리한 장점을 가지고 있습니다.

Normal-phase silica grades

유기화합물을 정상 컬럼에서 분석하는 경우, 특성에 따라 적절한 방법을 선택해야 합니다. 중성 화합물은 실리카 충진제에서 분리가 잘 됩니다. -NH2 그리고 Diol 충진제는 염기성 화합물을 분리할 때 사용합니다. HECTOR-ACD 는 산성 화합물 분리에 탁월한 성능을 나타냅니다.

-COOH 실리카 : 일반적인 유기산화합물의 분석할 수 있으나, 강한 산성의 화합물을 분석시에 추천하지 않습니다.

-SO3H 실리카 : 강한 유기산 화합물을 분석할 수 있습니다. 강한 산 때문에 컬럼의 수명에 영향을 미침으로써 사용시 주의해야 합니다.


HECTOR ACD WCX  

To separate acidic compounds using normal-phase bare silica gel, the addition of acid to the solution is necessary. There is no problem with the use of a pH buffer as an agent in the case of analytical separation, but when performing preparative separation, the pH-buffering agent must be removed later in the process. As Hector ACD WCX with an “immobilized acid functional group” works just as well as a buffer, however, there is no

need to add a TFA buffer.



모델

Phase

Description

Particle

Size (µm)

Pore Size

( Å )

Surface Area

(m2/g)

Carbon

Load

(%)

Phase

Type

End-capping

USP

Hector WCX

WCX

COOH boned silica surface

3,5,10

100

320

6~7

Monomeric

Yes

 




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